Cleansing Complex Polish retinol was selbst stark beanspruchte und
Description
was selbst stark beanspruchte und trockene Haut hydriert und die Feuchtigkeitsreserven wieder auffüllt
SODIUM STEAROYL GLUTAMATE
Hydrogenated Lecithin
the MAX™ crème
Cetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone
Cleansing Complex Polish retinol was selbst stark beanspruchte undTiefenreinigung & Peeling in einem Schritt Der Cleansing Complex Polish reinigt grndlich, ohne die Haut auszutrocknen oder ihrer natrlichen le zu berauben. Das leichte, schumende Gel enthlt umweltfreundliche Mikropartikel aus Cellulose und Jojoba, die zusammen mit Pflanzenextrakten und Salicylsure ein physikalisches sowie biochemisches Peeling ermglichen. Dieses Produkt bietet ein komplettes Gesichtserlebnis in nur einem Schritt es glttet, verfeinert
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